2022-11-25 07:29

做为IDM 2.0战略的一部分,Intel上周公布了野心勃勃的产品及技术工艺图,其中先进工艺的升级换代非常激进,不到4年内就要升级5代工艺,而且从2025年开始的新一代工艺开始会首发新一代的EUV光刻机,价格超过19亿一台。

Intel之所以这么激进,是因为在抢先使用EUV工艺上吃过亏,他们原本计划在10nm节点就上EUV工艺的,但是EUV光刻机当时还不成熟,随后被台积电、三星抢先了,阴差阳错之下工艺落后了。

Intel现在的计划是在Intel 4工艺(之前的7nm工艺)中使用EUV光刻机,计划今年下半年投产,首发产品是2023年的14代酷睿Meteor Lake处理器。

现在的EUV光刻机还是NA 0.33技术的,Intel的重点押注在了下一代EUV光刻机,也就是NA 0.55ASML新一代光刻机,据说成本高达3亿美元,约合19亿元。

实际上4年来Intel实际上已经下单了6NA 0.55EUV光刻机,其中分为两种,Twinscan Exe:5000系列主要用于工艺研发,产能输出是185WPH,每小时生产185片晶圆,2023年上半年交付。

量产型的NA 0.55光刻机是Twinscan Exe:5200,产能提升到200WPH,每小时200片晶圆,预计会在2024年下线,Intel20A工艺正好是在2024年量产。

不过Intel这次抢先下单不怕下代EUV光刻机延期吗?对于这个问题,主管Intel工艺技术的高管Ann Kelleher日前在采访中也谈到了这个可能性,但她表示就算延期了也不会让公司破产,而是有个B计划。

至于IntelB计划怎么解决新一代EUV光刻机跳票问题的,这就没有明确信息了。